Marburg 26.8.2010 (pm/red) Am Fachbereich Chemie gibt es seit Anfang des Monats eine Anlage, um mit neuer Qualität chemische Analysen zu machen. Damit können  grenzflächennahe Bereiche von Materialien analysiert werden. Klingt kompliziert, ist es auch.

Die TOF-SIMS (time-of-flight secondary ion mass spectrometry) genannte Anlage wurde mit Großgeräteantrag von der Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) finanziert.

Arbeitsweise mit sehr hoher Auflösung

Die Stärke der TOF-SIMS-Methode liegt zum einen in der extrem hohen Nachweisempfindlichkeit für Spurenelemente in einer Materialprobe. Zudem besteht die Möglichkeit, die Konzentration chemischer Komponenten als Funktion des Abstandes von der Oberfläche zu bestimmen. Dies eröffnet eine so genannte Tiefenprofilanalyse. Deren Auflösung liegt im Bereich von einem bis zwei Nanometern.

Inbetriebnahme des neuen Geräts: Prof. Karl-Michael Weitzel,links, und Prof. Bernhard Roling übergeben die erste Probe an Leiter Massenspektrometrieabteilung des Fachbereichs Chemie, Dr. Uwe Linne (Foto: FB Chemie-Uni Marburg)

Einsatz in Physikalischer Chemie

Tiefenprofilanalysen sind vor allem im Bereich der Physikalischen Chemie und der Materialwissenschaften von großer Bedeutung.
„Ein Beispiel einer geplanten Anwendung liegt in der Tiefenprofilanalyse elektrisch vorgepolter ionenleitender Gläser, ein anderes in der Tiefenprofilanalyse derartiger Gläser nach Ionenimplantation“, erklärt Prof.Karl-Michael Weitzel. Er hat zusammen mit Professor Bernhard Roling den Förderantrag gestellt.